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電鍍含磷廢水處理(除磷劑HMC-P3)

簡要描述:電鍍含磷廢水處理(除磷劑HMC-P3):NaH3PO2是電鍍工藝一種理想的還原劑,次提供還原鎳離子所需要的電子,使得鎳金屬沉積在金屬或者非金屬表面形成含鎳鍍層。零部件在沖洗以后產(chǎn)生清洗廢水,廢水中含有次亞磷酸根離子還有眾多絡(luò)合金屬離子。

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  • 更新時(shí)間:2024-04-30
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電鍍含磷廢水處理(除磷劑HMC-P3)次磷廢水處理方法

    現(xiàn)有很多電鍍廠通過芬頓氧化技術(shù)的原理把H3PO2根氧化為正磷酸根,再進(jìn)行加堿沉淀處理同樣無法處理達(dá)標(biāo),因?yàn)榉翌D氧化效率有限,只能氧化一部分H3PO2根,廢水中仍然含有大量的H3PO2根離子無法去除。

    湛清環(huán)保針對(duì)電鍍含次磷廢水,研發(fā)了除磷劑HMC-P3。除磷劑是一種多相無機(jī)復(fù)合鹽,由多種無機(jī)鹽復(fù)合而成,通過均相共沉淀原理,無需將次磷轉(zhuǎn)化為正磷,能直接與廢水中的H3PO2根離子結(jié)合形成沉淀,通過PAC混凝、PAM絮凝,從而把次亞磷去除。 

    三、電鍍含次磷廢水處理工藝流程

    除磷劑作用于電鍍含次磷廢水處理,一般采用以下步驟,可以把次亞磷*去除在0.5mg/L以下。具體工藝流程如下:

    1、取電鍍化學(xué)鎳次亞磷廢水

    2、調(diào)節(jié)廢水pH,加入除磷劑以及催化劑進(jìn)行反應(yīng)

    3、調(diào)節(jié)廢水pH,加入非PAM進(jìn)行絮凝反應(yīng)

    4、過濾沉淀出水,測定磷含量

    表三標(biāo)準(zhǔn)要求,總磷的排放標(biāo)準(zhǔn)在0.5mg/L以下,通過使用除磷劑進(jìn)行處理,加入磷含量的10倍左右的藥劑,可以*去除總磷。

電鍍含磷廢水處理(除磷劑HMC-P3)除磷劑除次磷廢水優(yōu)勢

    1.總磷去除率高,能處理達(dá)標(biāo)至電鍍廢水國家表三標(biāo)準(zhǔn)。

    2.使用工業(yè)簡單,污泥量少,運(yùn)行成本比傳統(tǒng)工藝低

    3.具有除磷、除COD等多重功效

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